軟膠囊內(nèi)容物均質(zhì)膠體磨

一、制備軟膠囊內(nèi)容物的分散問題

由軟膠囊內(nèi)容物的性質(zhì)可以看出，制備得到穩(wěn)定性和溶解度好的混懸劑，長時(shí)間放置不分層的狀態(tài)，所以粉體的分散程度是尤為重要的。油性內(nèi)容物分散需要加入合適的表面活性劑來進(jìn)行輔助。

二、影響內(nèi)容物混懸液穩(wěn)定性的因素

助懸劑：助懸劑作為溶解稀釋劑與助懸劑，是典型的模式化軟膠囊制備配伍，從設(shè)備角度來講，影響研磨的效果和磨頭的形式、剪切速率、齒形結(jié)構(gòu)、物料在磨頭受到剪切的時(shí)間、循環(huán)的次數(shù)、都有著很大的關(guān)系。

溫度的高低、處理的時(shí)間、研磨、分散、均質(zhì)設(shè)備的選擇也是很重要的。我司高剪切研磨分散設(shè)備專注于解決分散、均質(zhì)、混合、研磨等各項(xiàng)難題。我司超高速膠體磨研磨的微細(xì)及同樣粘厚又流態(tài)好、不分層，良好的穩(wěn)定性。

三、化爍機(jī)械改良型膠體磨設(shè)備介紹

化爍機(jī)械改良型膠體磨是由HSM2000系列膠體磨和HSRS2000系列分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

Di yi 級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

改良型膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

改良型膠體磨的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。

化爍機(jī)械錐體磨：結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū)，為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨。同時(shí)配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的磨頭型轉(zhuǎn)子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。

四、設(shè)備選型表：

以下為型號(hào)表供參考：

軟膠囊內(nèi)容物均質(zhì)膠體磨